开孔之硬遮罩及藉由开孔之硬遮罩施行之蚀刻轮廓控制

摘要

兹提供一种碳基硬遮罩层的开孔方法，该碳基硬遮罩层形成于一蚀刻层上，该蚀刻层位于一基板上方。该硬遮罩层配置于一图型化遮罩下方，而将该基板置放于一电浆处理室中。藉由使包含一COS成分之一硬遮罩开孔气体流入该电浆处理室内；从该硬遮罩开孔气体形成一电浆；及停止该硬遮罩开孔气体的流动，而将该硬遮罩层开孔。该硬遮罩层可由非晶形碳或旋涂式碳所组成，而该硬遮罩开孔气体可更包含O#sB!2#eB!。