发明名称 投射设备以及供投射设备使用之升降装置
摘要 本发明系提供一种供一投射设备使用之升降装置,其中该投射设备包含一座体。该升降装置包含一支撑元件以及一限制元件。该支撑元件系可转动地装设于该座体上,并且该支撑元件具有一受限部分以及一第一端。该限制元件系设置于该座体上,并且该限制元件用以限制该支撑元件之该受限部分。当一外力施加于该支撑元件致使该受限部分克服该限制元件之限制时,该支撑元件相对于该座体转动。
申请公布号 TW200907539 申请公布日期 2009.02.16
申请号 TW096128247 申请日期 2007.08.01
申请人 佳世达科技股份有限公司 发明人 何硕洋
分类号 G03B21/14(2006.01);G03B21/30(2006.01) 主分类号 G03B21/14(2006.01)
代理机构 代理人 陶霖
主权项
地址 桃园县龟山乡山莺路157号
您可能感兴趣的专利