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发明名称
SUBSTRATE FOR PHOTOMASK, PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF
摘要
申请公布号
KR20090015015(A)
申请公布日期
2009.02.11
申请号
KR20087012290
申请日期
2008.05.23
申请人
GEOMATEC CO., LTD.
发明人
SUGAWARA HIROYUKI
分类号
G03F1/54;G03F1/58;G03F1/80;H01L21/027
主分类号
G03F1/54
代理机构
代理人
主权项
地址
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