发明名称 |
电子发射装置及其制造方法 |
摘要 |
一种电子发射装置,包括互相面对并且形成真空区域的第一衬底和第二衬底。在第一衬底上设置电子发射区域,在第二衬底上设置具有光发射区和非光发射区的光发射区域。光发射区域包括形成在第二衬底上的至少一层荧光层。至少一个阳极覆盖该荧光层。阳极还定位成在阳极和非光发射区之间没有间隙。在光发射区,阳极的形状遵循荧光层的形状,并在阳极和荧光层之间形成间隙。 |
申请公布号 |
CN100461330C |
申请公布日期 |
2009.02.11 |
申请号 |
CN200510072171.6 |
申请日期 |
2005.05.25 |
申请人 |
三星SDI株式会社 |
发明人 |
李受贞 |
分类号 |
H01J31/12(2006.01);H01J29/02(2006.01);H01J9/02(2006.01) |
主分类号 |
H01J31/12(2006.01) |
代理机构 |
北京铭硕知识产权代理有限公司 |
代理人 |
郭鸿禧;冯敏 |
主权项 |
1.一种电子发射装置,包括:第一衬底和第二衬底,两者互相面对并且形成真空区域;电子发射区域,位于所述第一衬底上;以及光发射区域,包括光发射区和非光发射区,位于所述第二衬底上,其中:所述光发射区包括在所述第二衬底上形成的荧光层,以及所述荧光层上覆盖至少一个阳极,所述至少一个阳极在光发射区遵循所述荧光层的形状,所述至少一个阳极和所述荧光层之间形成预定的间隙,而所述至少一个阳极与所述非光发射区接触,其中,荧光层和所述至少一个阳极之间的距离在100nm到10μm之间。 |
地址 |
韩国京畿道 |