发明名称 电子发射装置及其制造方法
摘要 一种电子发射装置,包括互相面对并且形成真空区域的第一衬底和第二衬底。在第一衬底上设置电子发射区域,在第二衬底上设置具有光发射区和非光发射区的光发射区域。光发射区域包括形成在第二衬底上的至少一层荧光层。至少一个阳极覆盖该荧光层。阳极还定位成在阳极和非光发射区之间没有间隙。在光发射区,阳极的形状遵循荧光层的形状,并在阳极和荧光层之间形成间隙。
申请公布号 CN100461330C 申请公布日期 2009.02.11
申请号 CN200510072171.6 申请日期 2005.05.25
申请人 三星SDI株式会社 发明人 李受贞
分类号 H01J31/12(2006.01);H01J29/02(2006.01);H01J9/02(2006.01) 主分类号 H01J31/12(2006.01)
代理机构 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人 郭鸿禧;冯敏
主权项 1.一种电子发射装置,包括:第一衬底和第二衬底,两者互相面对并且形成真空区域;电子发射区域,位于所述第一衬底上;以及光发射区域,包括光发射区和非光发射区,位于所述第二衬底上,其中:所述光发射区包括在所述第二衬底上形成的荧光层,以及所述荧光层上覆盖至少一个阳极,所述至少一个阳极在光发射区遵循所述荧光层的形状,所述至少一个阳极和所述荧光层之间形成预定的间隙,而所述至少一个阳极与所述非光发射区接触,其中,荧光层和所述至少一个阳极之间的距离在100nm到10μm之间。
地址 韩国京畿道