发明名称 |
相位差薄膜、以及利用该相位差薄膜的偏振片、显示装置 |
摘要 |
本发明的目的是提供由环境的变化引起的相位差变化得到抑制、同时和以前相比在过于严酷的条件下的尺寸稳定性得到改善的相位差薄膜,并通过利用采用该相位差薄膜制作的偏振片,提供使用光泄漏的产生被抑制的正下方型背光源的显示装置。所述相位差薄膜的特征在于含有多元醇酯化合物、多元羧酸酯化合物、和总酰基取代度为2.4~2.8并且Mw/Mn为1.4~3.0的纤维素酯。 |
申请公布号 |
CN100460899C |
申请公布日期 |
2009.02.11 |
申请号 |
CN200510126855.X |
申请日期 |
2005.11.24 |
申请人 |
柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
发明人 |
斋藤浩一;清水邦夫;道端勇 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01);G02F1/1335(2006.01);B29K1/00(2006.01) |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
陈昕 |
主权项 |
1.相位差薄膜,特征在于含有多元醇酯化合物、多元羧酸酯化合物、和总酰基取代度为2.4~2.8并且Mw/Mn为1.4~3.0的纤维素酯,由下式定义的Ro为30~300nm,Rt为100~400nm,Rt/Ro为1.5~6.0;Ro=(nx-ny)×dRt={(nx+ny)/2-nz}×d式中,Ro是薄膜面内迟延值,Rt是薄膜厚度方向迟延值,nx是薄膜面内的滞相轴方向的折射率,ny是薄膜面内的进相轴方向的折射率,nz是薄膜厚度方向的折射率,折射率是在波长590nm测定,d是薄膜厚度,薄膜厚度单位为nm。 |
地址 |
日本东京 |