发明名称 用于制备含有新型成孔材料之多孔电介质薄膜的组合物
摘要 本发明提供一种制备含有成孔材料的多孔电介质薄膜的组合物,所述组合物含有双向洗涤剂,烷基季铵,热稳定有机或无机基质前体以及用于溶解所述两种固体组分的溶剂。本发明还提供一种用于半导体器件,具有良好机械性能,例如硬度,模量和吸湿性的夹层绝缘薄膜。
申请公布号 CN100460468C 申请公布日期 2009.02.11
申请号 CN200310124819.0 申请日期 2003.12.03
申请人 三星电子株式会社 发明人 柳利烈;李光熙;金知晚;张硕;林珍亨;朴在根
分类号 C08L83/04(2006.01);C08L5/16(2006.01);H01B3/46(2006.01) 主分类号 C08L83/04(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 张平元;赵仁临
主权项 1.一种用于制备多孔电介质薄膜的组合物,所述组合物含有:(1)成孔材料,其包括下面式(8)所示的双向洗涤剂,下面式(9)所示的烷基季铵盐或它们的混合物;(2)热稳定的有机或无机基质前体;及(3)用于溶解所述成孔材料和基质前体的溶剂:<img file="C200310124819C00021.GIF" wi="1662" he="278" />其中,R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>独立地为甲基或乙基;R<sub>3</sub>为C<sub>5~40</sub>烷基;X为卤原子;r独立地为氢原子,甲基或C<sub>1~10</sub>烷氧基;j是0或1;n是1~12的整数;及m是0~10的整数,以及NL<sub>1</sub>L<sub>2</sub>L<sub>3</sub>L<sub>4</sub>X           (9)其中,N是氮原子;X是卤原子;及L<sub>1</sub>,L<sub>2</sub>,L<sub>3</sub>和L<sub>4</sub>独立地为C<sub>1~30</sub>烷基,其中所述基质前体为倍半硅氧烷、烷氧基硅烷溶胶、硅氧烷基聚合物,或为聚酰亚胺、聚苯并环丁烯、聚亚芳基化合物、或它们的混合物;其中所述溶剂为芳烃基溶剂、酮基溶剂、醚基溶剂、乙酸酯基溶剂、酰胺基溶剂、γ-丁内酯、硅基溶剂、或它们的混合物;其中所述成孔材料的含量为固体组分的0.1~95重量%,该固体组分为成孔材料和基质前体的总和;所述溶剂的含量为组合物的20.0~99.9重量%,该组合物为基质前体、成孔材料和溶剂的总和。
地址 韩国京畿道