首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 UNIT LAYER POSTTREATING CATALYTIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF FILM FORMATION THEREWITH
摘要
申请公布号 KR100882174(B1) 申请公布日期 2009.02.06
申请号 KR20067019946 申请日期 2006.09.26
申请人 发明人
分类号 H01L21/318;C23C16/34;C23C16/42;C23C16/44;C23C16/56 主分类号 H01L21/318
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com