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经营范围
发明名称
Chemically Amplified Positive Resist Composition and Patterning Process
摘要
申请公布号
KR100882408(B1)
申请公布日期
2009.02.05
申请号
KR20080099203
申请日期
2008.10.09
申请人
发明人
分类号
G03F7/004;G03F7/039;C08F212/14;C08F220/10;G03C1/492;H01L21/027
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
主权项
地址
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