溝付き保持リング

摘要

【課題】ＣＭＰ装置を使って、基板の科学的機械研磨の際、研磨ステーション及びプラテン間の交差汚染の除去に有効な溝を有し、キャリアヘッドに取り付け使用する保持リングを提供する。【解決手段】複数組のチャネルを含む底部表面を有する実質的に環状のリング１００であって、前記チャネルの各々は、前記環状のリングの内径から前記環状のリングの外径まで伸び、各組のチャネルの第１チャネル１２０は、前記第１チャネルと交差する前記保持リングの半径区分に対して第１角度にあり、各組のチャネルの第２チャネル１３０は、前記チャネルの前記第２チャネルと交差する前記保持リングの半径区分に対し第２角度にあり、前記第１角度は前記第２角度と異なり、前記第１チャネルは前記第２チャネルと交差しないよう保持リングを構成する。【選択図】図１