发明名称 |
Halbleiterbauelement mit einer Kornorientierungsschicht |
摘要 |
Ein Fertigungsprozess eines Halbleiterbauelements umfasst das Erzeugen einer weniger zufälligen Kornorientierungsverteilung in Metallstrukturelementen des Halbleiterbauelements durch Verwenden einer Kornorientierungsschicht. Die weniger zufällige Kornorientierung, beispielsweise eine Kornorientierungsverteilung, die einen höheren Anteil an Körnern aufweist, die eine vorbestimmte Kornorientierung besitzen, kann zu einer verbesserten Zuverlässigkeit der Metallstrukturelemente führen. Die Kornorientierungsschicht kann auf den Metallstrukturelementen abgeschieden werden, wobei die gewünschte Kornstruktur der Metallstrukturelemente durch einen nachfolgenden Ausheizprozess erreicht werden kann, während dem das Metallstrukturelement mit der Kornorientierungsschicht in Kontakt ist.
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申请公布号 |
DE102007035837(A1) |
申请公布日期 |
2009.02.05 |
申请号 |
DE200710035837 |
申请日期 |
2007.07.31 |
申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES INC.;AMD FAB 36 LIMITED LIABILITY COMPANY & CO. KG |
发明人 |
BOEMMELS, JUERGEN;LEHR, MATTHIAS;RICHTER, RALF |
分类号 |
H01L21/768;H01L21/283;H01L21/321 |
主分类号 |
H01L21/768 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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