发明名称 |
平面反射式复眼冷光源曝光系统 |
摘要 |
一种平面反射式复眼冷光源曝光系统,属于光刻技术领域。包括:灯源组、多面镜组装置、反光镜组、曝光装置等,其特征在于,多面镜组装置,包括上层镜座、下层镜座,上层镜座紧密叠合于下层镜座上;上层镜座包括:上盘、上镜片压圈、上盘反光片,上镜片压圈置于上盘、上盘反光片之间,上盘反光片依次紧密环行成圈放列于上盘内;下层镜座结构类似上层镜座。反光镜组包括:小反光镜组、大反光镜组,小反光镜组、大反光镜组平行对峙放置,并与水平夹角为45°。本实用新型提出了多层反射镜的位置排列,大大提高了曝光均匀性,并拓展为更大的曝光面积。 |
申请公布号 |
CN201191356Y |
申请公布日期 |
2009.02.04 |
申请号 |
CN200820058370.0 |
申请日期 |
2008.05.14 |
申请人 |
上海学泽光学机械有限公司 |
发明人 |
张岳方 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G02B17/06(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1.一种平面反射式复眼冷光源曝光系统,包括:灯源组、多面镜组装置、反光镜组、曝光装置、罩壳,灯源组的光源中心置于多面镜组装置的中心点,反光镜组、曝光装置置于罩壳内,其特征在于,所述的灯源组,包括超高压汞灯、超高压汞灯架,超高压汞灯固定于超高压汞灯架;所述的多面镜组装置,包括上层镜座、下层镜座,上层镜座紧密叠合于下层镜座上;所述的上层镜座包括:上盘、上镜片压圈、上盘反光片,上镜片压圈置于上盘、上盘反光片之间,上盘反光片依次紧密环行成圈放列于上盘内;所述的下层镜座包括:下盘、下镜片压圈、下盘反光片,下镜片压圈置于下盘、下盘反光片之间,下盘反光片依次紧密环行成圈放列于下盘内;所述的反光镜组包括:小反光镜组、大反光镜组,小反光镜组、大反光镜组平行对峙放置,并与水平夹角为45°;所述的曝光装置包括:快门组、曝光准镜组、准直座轴、工作曝光面,快门组置于小反光镜组、大反光镜组之间,快门组、曝光准镜组、工作曝光面适应于光路依次放置。 |
地址 |
201108上海市闵行区老沪闵路1901号 |