| 发明名称 | 光刻装置，器件制造方法以及该方法制造的器件 | ||
| 摘要 | 一种光刻装置包括：用于提供辐射投影光束的照明系统；用于支撑构图器件的支撑结构，该构图器件用于使投影光束的横截面具有图案；保持基底的基底台；以及将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；在该装置的第一部分和第二部分之间有一能避免碰撞的碰撞保护系统，该装置能被至少一个致动器系统相对移动，所述碰撞保护系统包括：至少一个传感器系统，其测定该装置所述第一部分和第二部分的相对位置和/或相对速度；和一台控制器，在所述传感器系统测定所述第一部分和第二部分的相对位置和/或相对速度预示着潜在的碰撞的时候，控制所述致动器系统来阻止第一部分和第二部分靠近到一起。本发明还涉及一种器件制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN100458567C | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN200410059589.9 | 申请日期 | 2004.05.15 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | F·范德穆伦;H·贾科布斯;M·A·H·特肯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1、一种光刻装置，包括：用于提供辐射投影光束的照明系统；用于支撑构图器件的支撑结构，该构图器件用于使投影光束的横截面具有图案；保持基底的基底台；以及将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；其特征在于：在该装置的第一部分和第二部分之间有一能避免碰撞的碰撞保护系统，该装置能被至少一个致动器系统相对移动，所述碰撞保护系统包括：至少一个传感器系统，其测定该装置所述第一部分和第二部分的相对位置和/或相对速度；和一台控制器，在所述传感器系统测定所述第一部分和第二部分的相对位置和/或相对速度预示着潜在的碰撞的时候，控制所述致动器系统来阻止第一部分和第二部分靠近到一起。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||