| 发明名称 | 吸收型多层膜ND滤光片及其制造方法 | ||
| 摘要 | 吸收型多层膜ND滤光片，在由树脂膜构成的基板的至少一个面上，具有交互层叠氧化物介电体膜层与吸收膜层而形成的吸收型多层膜，其特征在于，通过波长550nm的消光系数为0.005～0.05的SiCyOx膜(0＜y≤0.1、1.5＜x＜2)构成上述氧化物介电体膜层，该SiCyOx膜通过采用以SiC及Si作为主成分的成膜材料的物理气相生长法成膜；并且，通过波长550nm的折射率为1.5～3.0、消光系数为1.5～4.0的金属膜构成上述吸收膜层，该金属膜通过物理气相生长法成膜，同时，吸收型多层膜的最外层由上述氧化物介电体膜层构成。 | ||
| 申请公布号 | CN101361010A | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN200780001633.2 | 申请日期 | 2007.01.18 |
| 申请人 | 住友金属矿山株式会社 | 发明人 | 大上秀晴 |
| 分类号 | G02B5/00(2006.01);C23C14/06(2006.01) | 主分类号 | G02B5/00(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 高龙鑫 |
| 主权项 | 1.一种吸收型多层膜ND滤光片，其在由树脂膜构成的基板的至少一个面上，具有交互层叠氧化物介电体膜层与吸收膜层而形成的吸收型多层膜，其特征在于，通过波长550nm的消光系数为0.005～0.05的SiCyOx膜构成上述氧化物介电体膜层，该SiCyOx膜通过采用以SiC及Si作为主成分的成膜材料的物理气相生长法成膜，其中，0＜y≤0.1、1.5＜x＜2；并且，通过波长550nm的折射率为1.5～3.0、消光系数为1.5～4.0的金属膜构成上述吸收膜层，该金属膜通过物理气相生长法成膜，同时，吸收型多层膜的最外层由上述氧化物介电体膜层构成。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||