带状工件的曝光装置及带状工件的曝光装置的聚焦调整方法

摘要

本发明的课题是实现可在曝光处理途中进行聚焦调整，且无须追加聚焦调整专用的照明单元或显像单元，就可以在短时间内调整聚焦。在将形成于掩模(M)的图案投影在带状工件(W)、并进行曝光的带状工件的曝光装置中，在掩模(M)的对准标记(MAM)的内侧形成投影透镜用聚焦调整图案(FP)。此外，在工件台(10)的贯通孔或缺口(10a)上配置光透过部件(10b)，而形成对准显微镜用聚焦调整图案(AP)。由对准显微镜(12)检测掩模与带状工件的对准标记，并进行掩模(M)与带状工件(W)的对位，接着，通过对准显微镜(12)，检测投影透镜用聚焦调整图案(FP)与上述对准显微镜用聚焦调整图案(AP)并进行聚焦调整。

主权项

1、一种带状工件的曝光装置，其特征在于，具备：光照射部，照射曝光光；掩模台，支承形成有图案和掩模对准标记的掩模；工件台，保持形成有工件对准标记的长的带状工件，并且形成有缺口或贯通孔；投影透镜，将形成于上述掩模的图案投影在上述工件上；光透过部件，配置在上述工件台的贯通孔或缺口上；对准显微镜，设置在上述光透过部件的下方；以及控制部，通过该对准显微镜，检测上述掩模对准标记和上述工件对准标记，并进行掩模的对位，在上述掩模形成有投影透镜用聚焦调整图案，并且，在上述光透过部件形成有对准显微镜用聚焦调整图案，上述控制部，通过上述对准显微镜来检测上述投影透镜用聚焦调整图案和上述对准显微镜用聚焦调整图案，并进行聚焦调整。