灰色调掩模的制造方法以及灰色调掩模

摘要

本发明涉及一种灰色调掩模的制造方法以及灰色调掩模、灰色调掩模的检查方法以及图案转印方法，能够定量检查半透光部使用半透光膜的灰色调掩模的制造阶段所能够产生的校准偏差。本发明中，通过在使用至少包含两次描绘工序的构图工序而在形成于透明基板上的膜上形成图案而制造具有遮光部和透光部和半透光部的灰色调掩模，通过第一次描绘工序得到的第一抗蚀剂图案包含第一标志，通过第二次描绘工序得到的第二抗蚀剂图案包括第二标志，测量第一抗蚀剂图案的第一标志或相当于该第一标志的膜图案的边缘和第二抗蚀剂图案的第二标志或相当于该第二标志的膜图案的边缘的距离，来检查该距离是否在规定范围内。

主权项

1、一种灰色调掩模的制造方法，该灰色调掩模具有遮光部、透光部、和将在掩模使用时所用的曝光光的透过量降低规定量的半透光部，用于在被转印体上形成膜厚阶梯地或连续地不同的抗蚀剂图案，所述灰色调掩模的制造方法的特征在于，包括：准备在透明基板上形成有第一膜的灰色调掩模坯料的工序；对形成在所述第一膜上的抗蚀剂膜进行构图而形成第一抗蚀剂图案的工序；将所述第一抗蚀剂图案作为掩模而对所述第一膜进行蚀刻，形成第一膜图案的工序；在除去了所述第一抗蚀剂图案的所述透明基板上，在包括所述第一膜图案的面上形成第二膜的工序；对形成在所述第二膜上的抗蚀剂膜进行构图而形成第二抗蚀剂图案的工序；以及将所述第二抗蚀剂图案作为掩模而对所述第二膜进行蚀刻，形成第二膜图案的工序，所述第一抗蚀剂图案包含第一标志，所述第二抗蚀剂图案包含第二标志，进而，还具有在所述第二抗蚀剂图案形成后、或者在所述第二膜图案形成后的至少任一个，进行校准偏差的检查的工序，在该检查工序中，在所述第二抗蚀剂图案形成后进行校准偏差的检查的情况下，对与所述第一标志对应的第一膜图案的边缘和所述第二抗蚀剂图案中的第二标志的边缘的距离进行测定，在所述第二膜图案的形成后进行校准偏差的检查的情况下，包括如下的工序，即：对与所述第一标志对应的第一膜图案的边缘和与所述第二标志对应的第二膜图案的边缘的距离进行测定，并检查所述距离是否在规定范围内。