在衬底上形成高介电常数的介电层的方法

摘要

公开了形成高介电常数介电层的方法，该方法包括提供工艺室，包括用于支撑衬底的支座；将包括高介电常数(Hi-K)电介质前体和氧(O₂)氧化剂的第一气体引入工艺室中，以便在衬底上形成高介电常数介电层的第一部分；以及从第一气体的气流切换到包括Hi-K电介质前体和臭氧(O₃)氧化剂的第二气体的气流，以便在第一部分上形成高介电常数介电层的第二部分。在可选的实施例中，可以使用氧作氧化剂在第二部分上形成另一部分。本发明增加至少20％的产量，而不会使得可靠性或漏电变劣，并且不需要额外的设备。

主权项

1.一种在衬底上形成高介电常数介电层的方法，该方法包括以下步骤：提供工艺室，包括用于支撑衬底的支座；将包括高介电常数电介质前体和氧气氧化剂的第一气体引入工艺室中，以便在衬底上形成高介电常数介电层的第一部分；以及从第一气体的气流切换到包括所述高介电常数电介质前体和臭氧氧化剂的第二气体的气流，以便在第一部分上形成高介电常数介电层的第二部分。