发明名称 | 显示装置的制造方法 | ||
摘要 | 本发明的目的是谋求降低与显示装置的制造相关的材料消耗量,简化制造过程以及制造过程中使用的装置,并且谋求削减制造成本。本发明提供一种制造显示装置的技术,该显示装置具有直接描绘并形成在半导体膜、配线或者绝缘膜上形成的接触孔等图案、或者形成这些图案用的掩模图案的单元;以及应用有选择地使绝缘膜、半导体膜、以及金属膜在规定区域形成的被覆膜形成单元。 | ||
申请公布号 | CN100459060C | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
申请号 | CN200480003243.5 | 申请日期 | 2004.01.30 |
申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 山崎舜平;荒井康行 |
分类号 | H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 沈昭坤 |
主权项 | 1.一种显示装置的制造方法,其特征在于,包含以下工序:利用被覆膜形成单元在衬底上至少形成绝缘膜、半导体膜、金属膜的工序,所述被覆膜形成单元将气体转换为等离子体、并从沿一轴方向排列的多个喷出口供给所述等离子体;利用液滴喷出单元将含有导电性材料的组合物描绘在衬底上形成配线图案的工序,在所述液滴喷出单元中所述组合物的多个喷出口沿一轴方向排列;利用液滴喷出单元将含有高分子树脂的组合物描绘在衬底上形成掩模图案的工序,在所述液滴喷出单元中所述组合物的多个喷出口沿一轴方向排列;利用被覆膜去除单元有选择地去除衬底上形成的被覆膜的蚀刻工序,所述被覆膜去除单元将气体转换为等离子体、并从沿一轴方向排列的多个喷出口供给所述等离子体;以及利用被覆膜去除单元将由高分子树脂形成的掩模图案加以去除的工序,所述被覆膜去除单元将气体转换为等离子体、并从沿一轴方向排列的多个喷出口供给所述等离子体。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |