发明名称 |
投射设备以及供该投射设备使用的升降装置 |
摘要 |
本发明提供了一种投射设备以及供该投射设备使用的升降装置,其中该投射设备包括座体。该升降装置包括支撑装置以及保持装置。该支撑装置可转动地设置于该座体上,并且该支撑装置具有受保持部以及第一端。该保持装置设置于该座体上,并且该保持装置用以限制该支撑装置的该受保持部。当外力施加于该支撑装置以使该受保持部克服该保持装置的限制时,该支撑装置相对于该座体转动。根据本发明的投射设备以及供该投射设备使用的升降装置,其通过受限制且可转动的支撑装置以调整该投射设备的摆放角度。由此,由于纵向的空间需求较小,可以满足薄型化以及小型化的要求。 |
申请公布号 |
CN101359161A |
申请公布日期 |
2009.02.04 |
申请号 |
CN200710143490.0 |
申请日期 |
2007.08.01 |
申请人 |
佳世达科技股份有限公司 |
发明人 |
何硕洋 |
分类号 |
G03B21/54(2006.01);B66D1/60(2006.01);H04N5/74(2006.01);H04N9/31(2006.01) |
主分类号 |
G03B21/54(2006.01) |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
章社杲;李丙林 |
主权项 |
1.一种供投射设备使用的升降装置,所述投射设备包括座体,所述升降装置包括:支撑装置,所述支撑装置可转动地设置于所述座体上,所述支撑装置具有受保持部以及第一端;以及保持装置,所述保持装置设置于所述座体上,所述保持装置用以限制所述支撑装置的所述受保持部;其中,当外力施加于所述支撑装置使得所述受保持部克服所述保持装置的限制时,所述支撑装置相对于所述座体转动。 |
地址 |
中国台湾桃园县 |