| 发明名称 | 一种金属层电路的制备设备和制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种金属层电路的制备设备，包括：电解槽；设置在电解槽上的电解液补充系统和电解液排放系统；电解液；阳极电极和阴极电极，阳极电极和阴极电极之间通过控制电路连接，其中阳极电极的材料为电化学惰性金属材料，表面形成有电路图案；阴极电极材料为金属靶材。本发明同时公开了利用金属层电路的制备设备制备金属层电路的方法。本发明通过刻蚀工艺直接制备金属层电路并同时回收刻掉的金属制备靶材的方法，从而进一步简化制备工艺，节约设备和资材成本，进一步提高TFT LCD的制作效率，降低制作成本。 | ||
| 申请公布号 | CN101360399A | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN200710119781.6 | 申请日期 | 2007.07.31 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 周伟峰;金基用;林承武 |
| 分类号 | H05K3/07(2006.01);C25F5/00(2006.01);C25F7/00(2006.01) | 主分类号 | H05K3/07(2006.01) |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘芳 |
| 主权项 | 1、一种金属层电路的制备设备，包括：电解槽；设置在电解槽上的电解液补充系统和电解液排放系统；电解液；阳极电极和阴极电极，阳极电极和阴极电极之间通过控制电路连接，其特征在于：所述阳极电极的材料为电化学惰性金属材料，表面形成有电路图案；所述阴极电极材料为金属靶材。 | ||
| 地址 | 100176北京市经济技术开发区西环中路8号 | ||