| 发明名称 | 光学元件制造方法、光学元件、尼普科夫盘、共焦光学系统以及三维测量装置 | ||
| 摘要 | 一种光学元件制造方法包括：设置遮光层(14)，该遮光层包括在用作基底件的基质上的作为最上层的至少Si层；在遮光层(14)上形成光学孔径(14a)；以及通过干法蚀刻在最上层的表面上形成微小的凹进/凸起结构。 | ||
| 申请公布号 | CN100458470C | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN200580037028.1 | 申请日期 | 2005.10.24 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 浜村宽;门松洁;雨宫升 |
| 分类号 | G02B5/00(2006.01);G02B5/02(2006.01);G01B11/24(2006.01);G02B21/00(2006.01) | 主分类号 | G02B5/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 刘建功;车文 |
| 主权项 | 1.一种光学元件制造方法，包括：设置遮光层，该遮光层包括作为在用作基底件的基质上的最上层的至少一层Si层；在遮光层形成光学孔径；以及通过干法蚀刻在该最上层的表面处形成微小的凹进/凸起结构。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||