| 摘要 |
<p>Behem plazmového nanášení keramických materiálu, které se provádí postupným nástrikem na vnejší predehrátý povrch dutých kovových jader, se soucasne provádí jak chlazení vnejšího povrchu nanášeného keramického materiálu, tak i chlazení vnitrního povrchu kovového jádra. Chlazení vnitrního povrchu jádra v cásti využité pro plazmový nástrik se provádí vzduchem nasávaným z okolí. Zarízení k chlazení vnitrního povrchu dutého kovového jádra je tvorenokovovou trubkou (2) vloženou do jádra (1), která je na jednom konci zaslepená a na druhém opatrená prívodem pomocného tlakového vzduchu. Poblíž zaslepeného konce je opatrena otvory (3). Tato trubka (2) zasahuje do dutého kovového jádra (1) tak hluboko, že otvory (3) na chladící trubce (2) jsou predoblastí plazmového nanášení keramických materiáluna vnejší povrch jádra (1).</p> |
