| 发明名称 | 用于对物品尤其对薄的盘片进行清洗的设备和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于对薄的晶片(6)进行清洗的设备，其中所述晶片(6)以其一个侧面固定在支座装置(2)上并且分别在两个相邻的基片之间构成中间空隙(7)，其中所述设备主要包括用于将流体送入所述中间空隙(7)中的喷淋装置(16)、可以加注流体的池(14)以及用于使所述支座装置(2)旋转的回转装置(15)，其中设计所述池(14)的尺寸，使得其接纳所述支座装置(2)。按本发明，可选择要么所述喷淋装置(16)可以相对于固定的支座装置(2)运动，要么所述支座装置(2)可相对于固定的喷淋装置(16)运动，要么不仅所述支座装置(2)而且所述喷淋装置(16)可相对于彼此运动。这种方法的突出之处在于，优选在清洗过程中首先用暖的流体进行喷淋，其中所述支座装置(2)在所述池的内部运动，并且随后用冷的流体进行超声清洗并且再度用暧的流体进行喷淋。 | ||
| 申请公布号 | CN101361166A | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN200780001569.8 | 申请日期 | 2007.12.10 |
| 申请人 | 里纳特种机械有限责任公司 | 发明人 | N·伯格 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 曹若;梁冰 |
| 主权项 | 1.用于对薄的晶片(6)进行清洗的设备，其中所述晶片(6)以其一个侧面固定在支座装置(2)上并且分别在两个相邻的晶片之间构成中间空隙(7)，所述设备主要包括：-喷淋装置(16)，利用该喷淋装置(16)将流体送入相应的中间空隙(7)中，-池(14)，可向该池(14)填注流体并且设计该池(14)的尺寸，使得其接纳所述支座装置(2)，以及-用于使所述支座装置(2)旋转的回转装置(15)，其中可选地要么所述喷淋装置(16)可以相对于固定的支座装置(2)运动，要么所述支座装置(2)可相对于固定的喷淋装置(16)运动，要么不仅所述支座装置(2)而且所述喷淋装置(16)可相对于彼此运动。 | ||
| 地址 | 德国居滕巴赫 | ||