| 发明名称 | 纳米多孔基板的制造方法 | ||
| 摘要 | 通过在基板上涂覆亲两性嵌段共聚物，形成具有与膜的表面垂直方向的亲水性圆柱体的纳米相分离结构，将该基板浸渍于蚀刻溶剂中，制造直径为3～40nm的孔以60nm以下的间隔排列的纳米多孔基板。 | ||
| 申请公布号 | CN101361170A | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN200680051060.X | 申请日期 | 2006.11.14 |
| 申请人 | 国立大学法人东京工业大学 | 发明人 | 弥田智一;镰田香织;渡边亮子 |
| 分类号 | H01L21/306(2006.01);B82B3/00(2006.01);C08J9/00(2006.01);C23F1/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/306(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 姚晖;陈建全 |
| 主权项 | 1.纳米多孔基板的制造方法，其包含以下步骤：在基板上形成由亲两性嵌段共聚物构成的膜，将该基板浸渍于含有相对于基板为水溶性的蚀刻剂的溶液中，之后将所述膜从所述基板上除去，其中，由所述亲两性嵌段共聚物构成的膜在其膜内在垂直于该膜面的方向上具有亲水性圆柱体，该亲水性圆柱体的直径为3～40nm，并以60nm以下的间隔排列，所述基板面的相当于所述亲水性圆柱体的位置经所述蚀刻剂处理过。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||