| 发明名称 | 采用反射辐射监控衬底处理 | ||
| 摘要 | 一种衬底处理设备具有一个能处理衬底的腔室，一个提供辐射的辐射源，一个适于将辐射偏振到一个或多个偏振角的辐射偏振器，偏振角选择成与衬底上的被处理部件的取向相关，一个在处理期间检测从衬底反射的辐射并产生信号的辐射检测器，以及一个处理该信号的控制器。 | ||
| 申请公布号 | CN100459027C | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN01816362.9 | 申请日期 | 2001.10.23 |
| 申请人 | 应用材料有限公司 | 发明人 | Z·隋;H·单;N·约翰松;H·努尔巴赫什;Y·关;C·弗鲁姆;J·袁;C－L·谢 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵蓉民 |
| 主权项 | 1.一种衬底处理设备，包括：一个能处理衬底的腔室；一个提供辐射的辐射源；一个第一辐射偏振器，其将所述辐射偏振至第一偏振角；一个第二辐射偏振器，其将所述辐射偏振至第二偏振角，所述第一和第二偏振角互不相同，且被选择成与所述衬底中正被处理的特征的取向相关；一个辐射检测器，用于在处理衬底期间检测从所述衬底反射的辐射并产生第一信号；和一个处理所述第一信号的控制器。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||