| 发明名称 | 用于反应溅射的设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于反应溅射的设备，其中对阴极施加等离子体的放电电压，将工作气体和反应气体引入溅射室内。利用阀门控制流入溅射室的总气流，同时使这两种气体的部分压力比值保持固定。 | ||
| 申请公布号 | CN100457962C | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN200410074970.2 | 申请日期 | 2004.09.01 |
| 申请人 | 应用材料有限公司 | 发明人 | 托马斯·弗里茨;冈特·克梅雷尔 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 林宇清;谢丽娜 |
| 主权项 | 1.一种用于在直列装置内溅射过程中控制放电电压的设备，其中多个面衬底(32)通过溅射室(2)移动，该设备具有：1.1至少一个阴极(3)，对其施加等离子体放电电压，而且具有1.2多个气体容器(26至28)，对所述气体容器(26至28)中的每个设置的控制阀(23至25)，其中将阀(23至25)控制的气体送到公共气体管线，1.3控制阀(19)，利用其能够控制流入溅射室(2)内的总气体流速，以调节放电电压，1.4压力传感器(20至22)，用于测量通过阀(23至25)的气体的压力，1.5设置到压力传感器(20至22)的调节器(29)，利用其使离开气体容器(26至28)的气体的部分压力比值保持固定。 | ||
| 地址 | 德国阿尔策瑙 | ||