曝光装置、曝光方法以及显示用面板基板的制造方法

摘要

在使用多个移动平台的近接方式的曝光中，使用激光测长系统，来高精度地进行曝光时的基板的定位。各移动平台搭载着夹盘(10a)与(10b)而向副平台底座(11a)、(11b)上以及主平台底座(11)上移动，从而在主平台底座(11)上进行基板(1)的定位。各第一激光测长系统包括激光源(31a)与(31b)、安装在各移动平台的X平台(14)下方的柱状镜(34a)与(34b)、以及设置在主平台底座(11)的偏离X导轨(13)的位置上的激光干涉仪(32a)与(32b)，从而对各移动平台的X方向的位置进行检测。激光干涉仪(32a)与(32b)不会受到副平台底座(11a)与(11b)的振动的影响，并且从激光干涉仪(32a)与(32b)到主平台底座(11)上的各移动平台为止的测定距离变短。

主权项

1、一种曝光装置，其使用近接方式，此曝光装置的特征在于包括：多个夹盘，用于保持基板；掩模架，用于保持光掩模；主平台底座，配置在所述掩模架的下方；多个副平台底座，在所述主平台底座的X方向或者Y方向上相邻接而配置着；导轨，从所述主平台底座上延伸到所述多个副平台底座上；多个移动平台，包括第一平台、第二平台以及第三平台，其中，所述第一平台搭载在所述导轨上且向X方向或者Y方向移动，所述第二平台搭载在第一平台上且向Y方向或者X方向移动，所述第三平台搭载在第二平台上且向θ方向旋转，所述多个移动平台搭载着各夹盘而向一个副平台底座上以及所述主平台底座上移动，从而在所述主平台底座上进行基板的定位；多个第一激光测长系统，用于检测各移动平台的X方向或者Y方向的位置；多个平台驱动电路，用于驱动各移动平台；以及控制装置，用于控制各平台驱动电路，各第一激光测长系统包括光源、反射机构以及激光干涉仪，其中，所述光源用于产生激光，所述反射机构安装在各移动平台的第一平台的下方，所述激光干涉仪设置在所述主平台底座的偏离所述导轨的位置上，对来自光源的激光与由反射机构所反射的激光的相干进行测定，所述控制装置根据各第一激光测长系统的检测结果，来控制各平台驱动电路。