于晶边区形成覆盖层的方法

摘要

一种于晶边区形成覆盖层的方法，此方法是先提供具有晶边区与中心区的基底。然后，提供上隔离物与下隔离物，其中上隔离物位于基底之上表面上，并至少覆盖中心区，而下隔离物位于基底之下表面上，并至少覆盖中心区。接着，于未被上隔离物覆盖的基底之上表面上以及未被下隔离物覆盖的基底之下表面上形成覆盖层。之后，移除上隔离物与下隔离物。