发明名称 |
在低温下矽金属或含矽材料之直接氯化作用的制程中用于初始反应之方法 |
摘要 |
本发明系关于一种用于在藉由矽金属、矽铁、氧化矽及/或碳化矽与氯在流体化床、固定床或隐床反应器中反应制造四氯化矽时起始反应之方法。氯化作用开始(点火)时之温度系在或接近周围温度(室温),藉由小量之点火或反应起始物,诸如容易在或接近周围温度下与氯进行放热反应之合金及/或化合物,由此将相邻的矽或含矽材料之温度提高至该矽或含矽材料之氯化点火温度以上的温度。 |
申请公布号 |
TW200904750 |
申请公布日期 |
2009.02.01 |
申请号 |
TW097116566 |
申请日期 |
2008.05.06 |
申请人 |
挪斯克 海德罗公司 |
发明人 |
柏 贝克;罗伯特 吉贝拉;乔瑞德 玛格雷 史瓦雷斯吐恩;格利特 维多 欧伊 |
分类号 |
C01B33/107(2006.01) |
主分类号 |
C01B33/107(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒;阎启泰 |
主权项 |
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地址 |
挪威 |