防反射膜材料及使用其之图型形成方法

摘要

本发明为一种防反射膜材料，其具有快速之蚀刻速度，因此作为光阻下层膜使用时，可降低蚀刻中之光阻图型的膜削减，且可将图型之变形抑制至较小。又，因具有高交联密度，故于热交联后可形成致密之膜，因此可防止与上层光阻膜之互混（mixing），为可提供显影后具有良好光阻图型之防反射膜材料。其特征为，至少含有具有下述通式（1）所示重复单位之聚合物的防反射膜材料。#P 097108142P01.bmp