| 发明名称 |
双层层合膜及使用其之图型形成方法，及双层层合膜之下层形成用树脂组成物与上层形成用正型敏辐射线性树脂组成物 |
| 摘要 |
本发明系以提供可容易地于基板表面形成无毛边（burr）的制膜层之光阻膜等为目的。关于本发明之双层层合膜，其特征为由含有（A）具有下述一般式（1）所表示的构造单元之聚合物及（C）溶剂之树脂组成物1所得之下层（光阻层[I]）以及含有（D）具有酚性羟基的聚合物、（E）含有 二叠氮基的化合物及（G）溶剂之正型敏辐射线性树脂组成物2所得之上层（光阻层[II]）所构成。#P 097110589P01.bmp |
| 申请公布号 |
TW200905402 |
申请公布日期 |
2009.02.01 |
| 申请号 |
TW097110589 |
申请日期 |
2008.03.25 |
| 申请人 |
ＪＳＲ股份有限公司 |
发明人 |
森康介;太田克 |
| 分类号 |
G03F7/095(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/095(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
