基板处理系统及基板洗净装置

摘要

提供可以完全除去附着于基板背面或周缘部之异物的基板处理系统。作为基板处理系统(10)所具备之基板洗净装置的制程模组(15)，具备收容晶圆Ｗ之腔室(38)、配置在该腔室(38)内而载置晶圆Ｗ之平台(39)，和配置在腔室(38)之顶棚部而与平台(39)对向之喷淋头(40)，平台(39)朝晶圆Ｗ背面或周缘部喷出呈现液相及气相之洗净物质，例如混合纯水和惰性气体例如氮气体的洗净剂，喷淋头(40)是产生朝向晶圆Ｗ表面之下向流。