发明名称 低熔深紫外线穿透玻璃
摘要 本发明提供一种低熔深紫外线穿透玻璃,其主要组成之莫耳百分率为五氧化二磷(P#sB!2#eB!O#sB!5#eB!)45~75%;三氧化二硼(B#sB!2#eB!O#sB!3#eB!)0~5%;氧化锌(ZnO)10~60%;硷金属氧化物(以R#sB!2#eB!O表示)0~5%;硷土金属氧化物(以RO表示)0.5~40%;氧化铝(Al#sB!2#eB!O#sB!3#eB!)0.5~8%;氟化物(CaF#sB!2#eB!、MgF#sB!2#eB!等)0~5%;氯化物(ZnCl#sB!2#eB!、CaCl#sB!2#eB!等)0~6%。
申请公布号 TW200904770 申请公布日期 2009.02.01
申请号 TW096126690 申请日期 2007.07.20
申请人 国立联合大学;施并裕 发明人 施并裕;许汉民
分类号 C03C4/00(2006.01);C03C3/247(2006.01) 主分类号 C03C4/00(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
地址 苗栗县苗栗市恭敬里联大1号