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经营范围
发明名称
叠层结构及其制法
摘要
本发明揭示一种叠层结构,其能够因少量的UV照射而改变其表面自由能。本发明亦揭露一种制造叠层结构的方法;一种具有该等叠层结构的电子装置;一种具有复数个该等电子装置的电子装置阵列;以及一种具有该等电子装置阵列的显示装置。该等叠层结构包括基材11、设置于基材上之可湿性改变层12,以及经图案化于可湿性改变层12上的导电层13。可湿性改变层12包括因施加能量而改变临界表面张力的材料。该具有可改变的临界表面张力之材料具有主链及侧链。侧链具有因吸收能量而键结断裂的两个或更多个位置。
申请公布号
TW200905936
申请公布日期
2009.02.01
申请号
TW097108891
申请日期
2008.03.13
申请人
理光股份有限公司
发明人
田野隆德;铃木幸荣;津田佑辅
分类号
H01L51/05(2006.01);H01L29/786(2006.01);H01L21/336(2006.01)
主分类号
H01L51/05(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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