半导体制造装置、半导体制造方法及电子器材

摘要

藉由让反应基比其他官能团更容易被切断的反应气体，来处理制造标的为半导体晶圆的装置及方法；典型的做法为，将反应气体本身，制作为具有OC#sB!2#eB!H#sB!5#eB!基或OCH#sB!3#eB!基等之矽氧烷气体之反应气体，经由和脱离C#sB!2#eB!H#sB!5#eB!基等后留下来的氧（O）的相互结合、或经由与C#sB!2#eB!H#sB!5#eB!基与OC#sB!2#eB!H#sB!5#eB!基或OCH#sB!3#eB!基的反应，来形成低介电率膜或绝缘物阻隔膜。