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<p>Un substrat de réseau pour un dispositif d'affichage à cristaux liquides (LCD) ayant une couche à semi-conducteurs profilée en îlot et un procédé de fabrication de ce substrat pour un dispositif LCD utilisant un processus à trois masques sont décrits.Le substrat comprend une ligne de grille (120) ; une ligne de données (130) ; un transistor en couches minces comprenant: une électrode de grille (125) reliée à la ligne de grille, une couche à semi-conducteurs (143) dont une frontière se trouve à l'intérieur de l'électrode de grille, une électrode de source (132) reliée à la ligne de données, et une électrode de drain (134) écartée de l'électrode de source ; un motif de passivation couvrant la ligne de données et le transistor en couches minces ; et une électrode de pixel (172) s'étendant depuis l'électrode de drain.Grâce à cette structure, la couche à semi-conducteurs ayant un profil d'ilôt et disposée à l'intérieur de l'électrode de grille n'est pas exposée à la lumière provenant de l'une unité de rétroéclairage évitant la génération d'un courant photoélectrique dans le TFT.</p> |
