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Ein Halbleitersubstrat zum Herstellen eines Halbleiterbauelements besitzt einen Grundkörper (31) aus einem ersten Halbleitermaterial, das eine erste Gittercharakteristik aufweist, und eine Membran (32), die einstückig mit dem Grundkörper verbunden ist und relativ zu dem Grundkörper (31) beweglich gelagert ist. Die Membran (32) bildet eine Oberfläche, auf der eine Schicht (38) aus einem zweiten Halbleitermaterial mit einer zweiten Gittercharakteristik angeordnet ist. Die zweite Gittercharakteristik ist verschieden von der ersten Gittercharakteristik. Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist die Membran (32) einen zentralen Membranbereich (34) auf, der von unten durch den Grundkörper (10) abgestützt ist. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements unter Verwendung eines solchen Halbleitersubstrates.
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