曝光装置

摘要

一种曝光装置，对基板与掩模进行校准，在将上述掩模密合于上述基板的状态下进行曝光，其中基板具有多个定位用的校准标记，掩模具有用来与上述校准标记对准位置的多个掩模标记并设有规定图案，曝光装置具有：以多个掩模标记为基础，求出掩模整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点MB的单元；以上述校准标记为基础，求出基板的整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点WB的单元；对掩模标记的分配点MB与校准标记的分配点WB进行比较的第一比较单元；根据第一比较单元的比较结果，判断上述校准标记的分配点WB相对于上述掩模标记的分配点MB是否在容许范围内的第一判断单元；在上述第一判断单元判断出在容许范围内时，将曝光光线照射于上述基板整体。

主权项

1、一种曝光装置，对基板与掩模进行校准，在将上述掩模密合于上述基板的状态下进行曝光，其中基板具有多个定位用的校准标记，掩模具有用来与上述校准标记对准位置的多个掩模标记并设有规定图案，该曝光装置具有：以上述多个掩模标记为基础，求出上述掩模整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点MB的单元；以上述多个校准标记为基础，求出上述基板整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点WB的单元；对上述掩模标记的分配点MB与上述校准标记的分配点WB进行比较的第一比较单元；根据上述第一比较单元的比较结果，判断上述校准标记的分配点WB相对于上述掩模标记的分配点MB是否在容许范围内的第一判断单元；在上述第一判断单元判断出在容许范围内时，将曝光光线照射于上述基板整体。