带电粒子束描绘方法和带电粒子束描绘装置

摘要

本发明提供即便是归因于多射束形成元件的故障等在带电粒子中产生了不良的情况下，也可以进行描绘处理而无须交换多射束形成元件，且不会使描绘精度下降的带电粒子束描绘技术。具有：形成以规定的间隔排列起来的多个带电粒子束的装置，对于多个带电粒子束独立地发挥作用的多个消隐器；对全部上述带电粒子束发挥作用的公用消隐器；在已给公用消隐器施加上了信号的状态下使已借助于多个消隐器赋予了规定的偏转作用的带电粒子束到达被曝光物上边，用来对于样品遮断未借助于多个消隐器赋予规定的偏转作用的带电粒子束的光阑装置，对于样品遮断特性不良的射束，仅仅用特性良好的射束进行描绘。

主权项

1.一种带电粒子束描绘方法，具有以下工序：一边连续移动装载了被曝光物的载物台，一边根据待描绘的图形在上述被曝光物上以最小偏转宽度为单位使排列为M×N个的多个带电粒子束进行偏转，对每一个偏转独立地控制射束的照射，对上述多个带电粒子束中的每一个带电粒子束所分配的要素描绘区域描绘图形，从而描绘由M×N个上述要素描绘区域所构成的子场；通过依次描绘在与上述连续移动方向垂直的方向上排列的多个子场来描绘由上述多个子场构成的主场；以及通过依次描绘在上述连续移动方向上排列的多个主场来描绘由上述多个主场构成的带，其特征在于，构成为具有独立地测定上述多个带电粒子束的特性的第1工序和把由上述第1工序所测定的特性满足预定基准的射束所构成的连续的m×n个射束群选作待用于描绘的射束，并且在描绘中对于上述被曝光物总是使用使上述多个带电粒子束选择性通过的可动光阑来遮断其余射束群的第2工序，将在上述第2工序选择的描绘用射束中所分配的m×n个要素描绘区域群作为1个子场进行描绘处理。