| 发明名称 | 等离子体处理装置 | ||
| 摘要 | 等离子体处理装置具备配置于与基板(2)对置的腔室(3)的上部开口的梁状间隔件(7)。梁状间隔件(7)具备：由腔室(3)支撑其下表面(7d)的环状外周部(7a)；在俯视的情况下位于由外周部(7a)包围的区域的的部(7b)；从部(7b)以放射状延伸至外周部(7a)的多个梁部(7c)。电介体板(8)被梁状间隔件(7)均一地支撑其整体。能够确保将腔室(3)内减压时用于支撑大气压的机械强度，同时，能够薄型化电介体板(8)。 | ||
| 申请公布号 | CN101351871A | 申请公布日期 | 2009.01.21 |
| 申请号 | CN200680050274.5 | 申请日期 | 2006.11.01 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 广岛满;朝仓浩海;渡边彰三;奥根充弘;铃木宏之;宝珍隆三 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01);H05H1/46(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种等离子体处理装置，其特征在于，具备：真空容器(3)，其在内部配置基板(2)；梁状构造物(7)，其具备：环状外周部(7a)，该环状外周部(7a)配置于与所述基板对置的所述真空容器的上部开口，且由所述真空容器支撑下表面(7d)；中央部(7b)，该中央部(7b)在俯视的情况下位于由所述外周部包围的区域的中央；多个梁部(7c)，该多个梁部(7c)从所述中央部以放射状延伸至所述外周部，并且由所述外周部、所述中央部、及所述梁部包围的区域构成窗部(26)；电介体板(8)，其下表面(8a)由所述梁状构造物的上表面(7g)支撑；用于产生等离子体的线圈(9)，其配置于所述电介体板的上表面侧，且接通高频电力。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||