发明名称 |
容许线重叠点处电部件未对准的交叉杆阵列设计以及线寻址方法 |
摘要 |
本发明的各个实施例涉及对接线和地址线的交叉杆阵列设计,而不管电部件和线之间的未对准。在一个实施例中,纳米级装置可以由两个或更多个线(1501-1511)的第一层和覆盖第一层的两个或更多个地址线(1512-1523)的第二层构成。纳米级装置还可以包括位于第一层和第二层之间的中间层(704-804)。可以在中间层内制造两个或更多个冗余电部件图案(1400),使得所述电部件图案中的一个或多个与第一和第二层对准。 |
申请公布号 |
CN101351846A |
申请公布日期 |
2009.01.21 |
申请号 |
CN200680050237.4 |
申请日期 |
2006.11.01 |
申请人 |
惠普开发有限公司 |
发明人 |
W·吴;P·J·屈克斯;R·S·威廉斯 |
分类号 |
G11C8/10(2006.01) |
主分类号 |
G11C8/10(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
张雪梅;陈景峻 |
主权项 |
1.一种对接线和地址线的装置,该装置包括:两个或更多个线(1501-1511)的第一层;覆盖第一层的两个或更多个地址线(1512-1523)的第二层;位于第一层和第二层之间的中间层(704,804);以及在中间层内制造的两个或更多个冗余电部件图案(1400),使得所述电部件图案中的一个或多个与第一和第二层对准。 |
地址 |
美国德克萨斯州 |