有机金属化合物

摘要

本发明提供了包含至少一种甲脒盐配体的杂配基有机金属化合物。这些杂配基有机金属化合物比常规气相沉积前体具有改进的性质。该化合物适于用作含直接液体喷射气相的沉积前体。本发明还提供了使用该化合物或它们在有机溶剂中的溶液通过如ALD和CVD沉积薄膜的方法。

主权项

1.在基材上形成含金属的层的方法，该方法包括：在气相沉积反应器中提供一种基材；将气体形式的杂配基甲脒盐化合物传输到所述反应器；然后在基材上沉积含金属的膜；其中杂配基甲脒盐化合物包含金属、甲脒盐配体和阴离子配体。