发明名称 Belichtingsinrichting van een microlithografische projectie belichtingsinstallatie.
摘要
申请公布号 NL1035210(C2) 申请公布日期 2009.01.20
申请号 NL20081035210 申请日期 2008.03.26
申请人 CARL ZEISS SMT AG 发明人 DAMIAN FIOLKA
分类号 G03F7/20;G02B27/28 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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