发明名称 敏辐射线性树脂组成物、层间绝缘膜及微透镜、以及此等之制造方法
摘要 本发明系一种敏辐射线性树脂组成物,其特征系含有:[A](a1)不饱和羧酸及/或不饱和羧酸酐、(a2)含有环氧基及/或氧环丁基之不饱和化合物,及(a3)(a1)成分及(a2)成分以外之不饱和化合物的共聚物,[B]1,2- 二叠氮化合物及[C]含有与[A]成分藉由热产生交联反应之官能基的矽氧烷低聚物。具有高敏辐射线感度,且具有在显影步骤中即使超过最佳显影时间也可形成良好之图型形状之显影安全系数,容易形成密着性优之图型状薄膜的敏辐射线性树脂组成物。
申请公布号 TW200903154 申请公布日期 2009.01.16
申请号 TW097101656 申请日期 2008.01.16
申请人 JSR股份有限公司 发明人 花村政晓;内池千浩;三谷浩司;饭岛孝浩;滨田谦一;长屋胜也;大沼友希
分类号 G03F7/027(2006.01);G02B3/00(2006.01) 主分类号 G03F7/027(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本