发明名称 |
用于形成保护膜之辐射敏感树脂组成物,自该组成物形成保护膜之方法,液晶显示装置及固态影像感测装置 |
摘要 |
一种用以形成保护膜之辐射敏感树脂组成物,其包含:[A](a1)不饱和羧酸及/或不饱和羧酸酐、(a2)含环氧基之不饱和化合物及(a3)异于组份(a1)及(a2)之不饱和化合物的共聚物;[B]具有180或更大之分子量及羧基的单官能性可聚合不饱和化合物;[C]多官能性可聚合不饱和化合物;及[D]感光聚合起始剂,一种自前述组成物形成保护膜之方法及自前述组成物形成之保护膜。该组成物可提供具有高度平坦性之固化薄膜、具有高显影性及耐热性、有利于用以形成液晶显示装置及固态影像感测装置用保护膜且具有高度组成物储存安定性。 |
申请公布号 |
TW200903155 |
申请公布日期 |
2009.01.16 |
申请号 |
TW097109645 |
申请日期 |
2008.03.19 |
申请人 |
JSR股份有限公司 |
发明人 |
伊藤由树子;一户大吾;田彻 |
分类号 |
G03F7/027(2006.01);G02F1/1333(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/027(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |