| 发明名称 |
光阻图型之形成方法及用于该方法之光阻图型不溶化树脂组成物 |
| 摘要 |
包含(1)介由光罩选择性地曝光于第一光阻层后，进行显影，形成第一光阻图型之步骤、及(2)于第一光阻图型上，涂布可不溶化第一光阻图型之光阻图型不溶化树脂组成物，烘烤或紫外线硬化(UV Curing)后，进行显影，使第一光阻图型为不溶化光阻图型之步骤、及(3)于不溶化光阻图型上形成第二光阻层，介由光罩选择性地曝光于第二光阻层之步骤，(4)进行显影，形成第二光阻图型之步骤之光阻图型之形成方法。 |
| 申请公布号 |
TW200903582 |
申请公布日期 |
2009.01.16 |
| 申请号 |
TW097108749 |
申请日期 |
2008.03.12 |
| 申请人 |
ＪＳＲ股份有限公司 |
发明人 |
中村敦;永井智树;安陪毅由;柿泽友洋 |
| 分类号 |
H01L21/027(2006.01);G03F7/40(2006.01);G03F7/039(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
