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发明名称
感光性积层体制造装置及制造方法
摘要
本发明系将可挠性基底膜(26)放置于皮带输送机(104a～104d)及(106a～106d)后，使一方之皮带输送机(104a～104d)朝箭头Y2方向移动，并且使放置面朝箭头Y1方向移动，使另一方之皮带输送机(106a～106d)朝箭头Y1方向移动，并且使放置面朝箭头Y2方向移动，再者，藉由使皮带输送机(104a～104d)及(106a～106d)朝箭头θ方向移动，而使可挠性基底膜(26)从皮带输送机(104a～104d)及(106a～106d)落下于基底膜收容部(102)而收容。
申请公布号
TW200902314
申请公布日期
2009.01.16
申请号
TW097110459
申请日期
2008.03.25
申请人
富士软片股份有限公司
发明人
长谷明彦;泽原真吾
分类号
B32B37/24(2006.01);B32B7/08(2006.01);B29C65/02(2006.01);B29C65/82(2006.01);G03F7/004(2006.01)
主分类号
B32B37/24(2006.01)
代理机构
代理人
何金涂;何秋远
主权项
地址
日本
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