研磨用组成物及研磨方法

摘要

本发明系提供对多晶矽膜可选择性研磨氧化矽膜之研磨用组成物及使用该研磨用组成物之研磨方法。本发明之研磨用组成物系含有选自二氧化矽及二氧化铈之砥粒、由氨、铵盐、硷金属盐及硷金属氢氧化物选出之硷、由聚氧乙烯改性矽油、聚（氧乙烯氧丙烯）改性矽油、环氧/聚醚改性矽油及胺基/聚醚改性矽油选出之有机改性矽油。