| 摘要 |
〔课题〕提供一种雷射转印装置之转印头，系在代表雷射修复装置所的该种雷射转印装置中，可将转印材料之薄膜与转印对象物之距离始终维持于微米级(例如，5～20 μm)。〔解决手段〕其具有：转印板保持器，其下面保持有转印板，且开设有朝上面侧方向用以使转印板露出之转印窗口；转印头机体，其具有收容该转印板保持器用的空间，同时提供水平方向及垂直方向上的位置基准；保持器支撑机构，系将收容于该转印头机体之转印板保持器收容用空间内的转印板保持器，支撑成可相对于该转印头机体作上下移动且不可作水平移动；及转印板上浮手段，系藉由朝该转印板保持器之下方喷射压缩气体，而使该转印板连同转印板保持器一起对被转印面上浮。 |
