| 摘要 |
本发明之目的，系提供一种在微影术中，可充分减低驻波(standing wave)效果，且相对于硷显影液之溶解性优异的上层防反射膜形成用树脂及上层防反射膜形成用组成物以及光阻图案形成方法。本上层防反射膜形成用树脂，系含有下式(1)之重覆单位，及下式(2)之重覆单位中至少一者，以GPC法测定之重量平均分子量为1000～100000，且可溶于硷显影液者。#P 097110062P01.bmp〔式中，R#sP!1#eP!～R#sP!14#eP!各自示氢原子，-OH，-COOH，或-SO#sB!3#eB!H，且R#sP!1#eP!～R#sP!7#eP!或者R#sP!8#eP!～R#sP!14#eP!之不会全部非为氢原子〕。 |
