发明名称 正型光阻组成物及使用它之图案形成方法
摘要 本发明揭示一种正型光阻组成物,其包括:(B1)一种在酸之作用下可分解而增加树脂(B1)在硷性水溶液中溶解度之树脂,树脂(B1)含说明书中定义之指定羟基苯乙烯为主重复单元及/或(甲基)丙烯酸为主重复单元;(B2)一种在酸之作用下可分解而增加树脂(B2)在硷性水溶液中溶解度之树脂,树脂(B2)含说明书中定义之指定羟基苯乙烯为主重复单元及/或(甲基)丙烯酸为主重复单元,而且含说明书中定义之指定含芳环结构重复单元;及(A)一种在以光化射线或辐射照射时可产生酸之化合物,及一种使用此组成物之图案形成方法。
申请公布号 TW200903164 申请公布日期 2009.01.16
申请号 TW097110291 申请日期 2008.03.24
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 水谷一良;杉山真一
分类号 G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/039(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本